KHネオケム株式会社（本社：東京都中央区、代表取締役社長：髙橋理夫）は、2025年3月10日（月）にアクリエひめじで開催の「ニュースバルシンポジウム2025※１」に参加いたします。シンポジウムでは、兵庫県立大学 山川進二 准教授と半導体技術に関する共同研究の成果を発表いたします。
2019年から極端紫外線（Extreme Ultraviolet；EUV）を用いたＥＵＶリソグラフィ技術※2による半導体チップの量産が始まり、半導体の微細加工技術は日々進歩しております。これに伴い、半導体製造工程で使用される金属含有量のごく僅かな高純度溶剤の品質が、これまで以上に重要な役割を担うようになりました。
当社は、EUVリソグラフィ研究の最前線をリードする兵庫県立大学 山川進二 准教授と協力し、半導体製造工程に不可欠なレジスト組成物中の溶剤の効果を解明すべく共同研究を進めています。高純度溶剤と兵庫県立大学ニュースバル放射光施設が有する軟X線を用いた材料評価を基点に、半導体産業のさらなる発展に貢献してまいります。
※1:シンポジウムホームページ：https://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/event/20250310_NSS2025_v20241226.pdf
※2:波長が13.5nmの極端紫外線を用いた半導体露光技術。
【学会情報】
| 学会名 | 日時 | 場所 |
| ニュースバルシンポジウム２０２５ | 202５年3月10日（月） 10:00～17:30 | アクリエ姫路 （兵庫県姫路市神屋町143-2） |
◎PDF版はこちらから。
250310_ＫＨネオケム、「ニュースバルシンポジウム2025」での発表のお知らせ
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■本件についてのお問い合わせ先
KHネオケム株式会社 四日市工場 技術開発センター
電話:059-331-5110